product
SEMICONDUCTOR DIVISION

마스크 얼라이너(Shadow Mask Aligner)(데모테스트 문의) 요약정보 및 구매

제조사 Idonus
원산지 Switzerland
모델 SMA / Double Image Microscope

제품 상세설명

Shadow Mask Aligner 

                                                                                                                        

                                                                                                                                              

제 품 설 명 서

 

1. 사용 목적

새도우 마스크를 통한 박막 증착은 PVD 레이어 구조를 위한 매우 유용한 공정입니다.

다만 새도 마스크와 웨이퍼의 정렬 및 temp fixation이 매우 어려운 단점이 있습니다.

 

Idonus사의 Shadow Mask Aligner는 현미경을 사용하여 매우 정밀한 정렬과(6um공차내) 새도우 마스크와 웨이퍼에 damage를 주지 않는 것에 중점을 두어 새도우 마스크 공정의 단점을 보완해 주는 장비입니다.

 

2. 특징

 

Shadow mask aligner의 가장 큰 장점은 떨림 방지 클램핑 척이라고 할 수 있습니다.

매우 간편하게 웨이퍼와 마스크 장착/ 정렬이 가능하며 클램핑 척에 올려놓은 상태 그대로 챔버내에 넣어 PVD공정을 진행 할 수 있습니다.

또한 공정 후 웨이퍼와 마스크에 어떠한 damage도 가해지지 않습니다.

 

척은 모든 기판 크기에 맞춰 공급되며 커스터 마이징 또한 가능합니다.

 

 

*추가적으로 금속, 실리콘, 유리, 세라믹 등 다양한 재질로  shadow mask 를 제작 판매하고 있습니다.


3. 장점

n  PVD용 내진동 척

n  쉽고 손상이 없는 웨이퍼 클램핑 매커니즘

n  간편조작 가능하고 손상이 없는 클램핑 척

n  진공으로 고정하여 정렬에 보다 더 도움을 줌

n  모든 기판크기에 맞춰 공급되는 척

n  커스터마이징 옵션

n  설치 매우 간편

n  낮은 운영 비용

 

 

 d9200da1737d85be7b3b23787b3726da_1612398

 

관련제품

등록된 상품이 없습니다.